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Canon, das japanische Unternehmen, das weltweit für seine hochwertigen Kameras und Drucker bekannt ist, hat am Freitag, den 13. Oktober, eine bahnbrechende Innovation präsentiert, die die Produktion fortschrittlicher Halbleiterkomponenten erheblich verbessern wird.
Starker Wettbewerbszug von Canon
Laut einem Bericht von CNBC hat Canon mit seinem kürzlich eingeführten “Nanoimprint-Lithografie”-System einen klaren Schritt unternommen, um mit dem niederländischen Unternehmen ASML zu konkurrieren, das eine dominierende Rolle in der Extrem-Ultraviolett (EUV)-Lithografiebranche spielt. Das Maschinenportfolio von ASML ist entscheidend für die Produktion fortschrittlicher Chips, einschließlich derjenigen, die in den neuesten Apple iPhones verwendet werden.
Der Einsatz dieser Maschinen ist mit dem technologischen Konflikt zwischen den Vereinigten Staaten und China verknüpft. Die Vereinigten Staaten haben versucht, Chinas Zugang zu wesentlichen Chips und Produktionsmaschinen durch Exportbeschränkungen und verschiedene Sanktionen zu begrenzen, was den Fortschritt der weltweit zweitgrößten Volkswirtschaft in einem Bereich, in dem sie bereits im Rückstand ist, erheblich hemmt.
Enorme Beliebtheit der ASML EUV-Technologie
Die EUV-Technologie von ASML hat enorme Beliebtheit bei führenden Chip-Herstellern erlangt, aufgrund ihrer entscheidenden Rolle bei der Ermöglichung der Halbleiterproduktion im Maßstab von 5 Nanometern und kleiner. Die Nanometer-Maßeinheit bezieht sich auf die Größe der Chip-Merkmale, wobei kleinere Werte mehr Merkmale auf einem Chip ermöglichen, was die Leistung von Halbleitern verbessert.
Berichten zufolge hat Canon angekündigt, dass ihr neues System, das FPA-1200NZ2C, Halbleiter im Maßstab von 5 Nanometern herstellen kann und sogar auf 2 Nanometer reduziert werden kann, was die Leistungsfähigkeit der A17 Pro-Chip, der in den iPhone 15 Pro und Pro Max von Apple zu finden ist und einen Halbleiter von 3 Nanometern verwendet, übertrifft.
Exportverbot von ASML nach China durch die niederländische Regierung
Die niederländische Regierung hat bereits Exportbeschränkungen für ASML auferlegt, was zur Einstellung des Exports ihrer EUV-Lithografiemaschinen nach China geführt hat, wo bisher keine dieser Maschinen ausgeliefert wurde. Diese Beschränkungen wurden aufgrund der entscheidenden Rolle dieser Maschinen in der Produktion fortschrittlicher Halbleiterchips eingeführt.
Mit der Ankündigung von Canon, dass ihr neues System angeblich in der Lage ist, die Halbleiterproduktion im Maßstab von 2 Nanometern zu erleichtern, wird dieses Thema höchstwahrscheinlich noch stärker in den Fokus gerückt. Es ist derzeit unbekannt, ob Canon ein ähnliches Exportverbot auferlegt bekommt.
